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高純晶須碳納米管導電劑研磨分散機

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  • 型號 XMD2000
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 蘇州市

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更新時間:2020-10-22 12:11:51瀏覽次數:547

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產品簡介

類型 其他    
高純晶須碳納米管導電劑研磨分散機配套三層連續(xù)高剪切分散機,用于粉體和液體的預分散,分散后進入高剪切分散工序,配管能夠打循環(huán).

詳細介紹

高純晶須碳納米管導電劑研磨分散機

納米鋰電漿料分散設備,碳納米管導電漿料分散機,高轉速分散機

碳納米管是一種新型的碳素材料,由呈六邊形排列的碳原子構成數層至數十層的同軸圓管,層與層之間保持固定的距離,約0.34nm,直徑一般為2-20納米。

碳納米管具有不尋常的性能,在納米技術、電子、光學及材料科學和技術領域具有重要應用價值。特別是優(yōu)異的的電傳導、熱傳導和機械性能,使碳納米管在許多領域有廣泛的應用空間。目前報導的碳納米管的主要制造方法是化學氣相沉積法、電弧法和激光法。電弧法和激光法不適用于工業(yè)化生產,化學氣相沉積發(fā)生產的碳納米管彎曲和相互纏繞,阻礙工業(yè)應用。

本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術的不足,提出一種晶須狀碳納米管的制造方法。本發(fā)明是通過以下技術方案實現(xiàn)的。1、將二茂鐵按重量體積=1 10^50的比例,溶解在苯溶液中,過濾。2、將配置好的二茂鐵-苯溶液使用霧化器,通過氫和氮的混合氣體噴射注入到合成爐中,合成爐溫度控制在900°C 1200°C。本發(fā)明工藝簡單,原料來源廣泛,適用大規(guī)模工業(yè)生產。本發(fā)明所述的碳納米管用作鋰離子電池的導電添加劑;用于制造碳納米管導電薄膜;用于制造電磁屏蔽和吸波材料;用作鋰離子電池的正負極和集流極;用于場發(fā)射顯示器發(fā)射極。

制備方法:

1.取10克二茂鐵溶解在300毫升苯溶液中,過濾后備用。2.將上述配制好的二茂鐵-苯溶液用蠕動泵注入到霧化器中,同時將氫和氮的混合氣體導入霧化器。3.霧化后的溶液噴射注入爐溫為900°C的合成爐中合成碳納米管。4.合成的碳納米管在合成爐的底部沉積,冷卻后取出。

1.取10克二茂鐵溶解在100毫升乙醇溶液中,過濾后備用。2.上述配制好的二茂鐵乙醇溶液用蠕動泵注入到霧化器中,同時將氫和氮的混合氣體導入霧化器。3.霧化后溶液噴射注入1000°C的合成爐中合成碳納米管。4.合成的碳納米管在合成爐的底部沉積,冷卻后取出。實施例3。1.取10克二茂鐵溶解在500毫升乙醇溶液中,過濾后備用。2.上述配制好的二茂鐵乙醇溶液用蠕動泵注入到霧化器中,同時將氫和氮的混合氣體導入霧化器。3.霧化后溶液噴射注入12000°C的合成爐中合成碳納米管。4.合成的碳納米管在合成爐的底部沉積,冷卻后取出。實施例4。1.取10克二茂鐵溶解在400毫升乙醇溶液中,過濾后備用。2.上述配制好的二茂鐵乙醇溶液用蠕動泵注入到霧化器中,同時將氫和氮的混合氣體導入霧化器。3.霧化后溶液噴射注入1000°C的合成爐中合成碳納米管。4.合成的碳納米管在合成爐的底部沉積,冷卻后取出。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

高純晶須碳納米管導電劑研磨分散機

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