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反滲透+EDI 制程工業(yè)用純水機(jī)

一、產(chǎn)品型號(hào)

VGT-4000L/H-2RE

二、設(shè)備用途

本純水系統(tǒng)產(chǎn)水能力為4T/H，主要用于光學(xué)玻璃、半導(dǎo)體、精密零件的清洗。

三、主要技術(shù)指標(biāo)

RO 反滲透≤3-5μS/cm；
EDI 產(chǎn)水電阻率≥15-16MΩ·cm；
拋光混床產(chǎn)水電阻率≥17-18MΩ·cm；
用水點(diǎn)的供水壓力為0.2-0.4MPa

四、純水設(shè)備的組成及描述

本系統(tǒng)主要由以下部分組成：

1）、預(yù)處理單元：原水箱、原水泵、石英砂過濾器、活性碳過濾器、保安過濾器等組成，用于除去原水中的懸浮物及膠體及吸附原水中的有機(jī)物、部分色素和有害物質(zhì)，降低化學(xué)耗氧量COD。
2）、反滲透單元：高壓泵、反滲透裝置、中間水箱、PH 值調(diào)節(jié)、純水箱及反滲透膜清洗系統(tǒng)等組成。本單元脫鹽率可達(dá)到98%以上，并能將水中的細(xì)菌，膠體及大分子量的有機(jī)物大部分電解質(zhì)去除。
3）、EDI 單元：純水泵、TOC 脫除器、精密過濾器、EDI 連續(xù)性電除鹽、EDI 電源等組成。用于進(jìn)一步去除水中雜質(zhì)、殘留鹽份及水中的金屬離子。
4）、拋光混床單元：4噸拋核子級(jí)樹脂
5）、供水單元：紫外線殺菌、精密過濾器組成，將純水輸送到使用點(diǎn)。
6）、電控及儀表單元：主要由電器控制柜（EDI 電源）、儀表儀器顯示盤、在線水質(zhì)檢測顯示器、PLC邏輯控制及觸摸屏操作盤等組成。完成本系統(tǒng)的自動(dòng)化控制、參數(shù)設(shè)置、信息儲(chǔ)存。

五、純水系統(tǒng)說明

本系統(tǒng)采用 PLC（可編程控制器）全自動(dòng)控制。設(shè)備配置測量儀表，能直觀的顯示各級(jí)的壓力和流量，觸摸屏控制面板能夠直觀顯示兩級(jí)反滲透出水的電導(dǎo)率、EDI 出水的電阻率。采用三菱PLC 控制設(shè)備運(yùn)行情況，有過載、超壓、缺水等故障保護(hù)和報(bào)警；設(shè)備總進(jìn)水、總產(chǎn)水、總排水、原水電導(dǎo)率、一級(jí)、二級(jí)反滲透電導(dǎo)率及EDI 出水電阻率數(shù)值等能在設(shè)備主控界面上實(shí)時(shí)顯示并存儲(chǔ)。